抗偏振敏感光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底
授权
摘要
本实用新型涉及一种抗偏振敏感光栅‑金属纳米颗粒溶胶双增强基底，其结构包括二维银正弦光栅和附着在二维银正弦光栅上的金纳米颗粒溶胶层；所述二维银正弦光栅是采用二氧化硅玻璃作为衬底材料，在其上均匀旋涂有光刻胶层，利用双光束激光干涉光刻技术在光刻胶层上形成均匀的二维正弦光栅结构，并使用热蒸镀法在二维正弦光栅结构的表面蒸镀一层均匀的银薄膜；所述金纳米颗粒溶胶层是在溶胶中含有粒径在80~120nm、粒子浓度为7.5×10‑9mol/L的金纳米颗粒，所述金纳米颗粒均布在所述溶胶中。本实用新型克服了SERS信号对入射激光电场偏振方向的敏感性，具有灵敏度高、重现性好和可靠度高等特点，且能实现痕量物质的实时表面增强拉曼散射检测。
基本信息
专利标题 ：
抗偏振敏感光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021669549.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
CN213041741U
授权日 ：
2021-04-23
发明人 ：
陈志斌肖程秦梦泽张冬晓
申请人 ：
中国人民解放军32181部队
申请人地址 ：
河北省石家庄市北新街169号
代理机构 ：
石家庄国域专利商标事务所有限公司
代理人 ：
胡澎
优先权 ：
CN202021669549.7
主分类号 ：
G01N21/65
IPC分类号 ：
G01N21/65
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/65
喇曼散射
法律状态
2021-04-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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