本实用新型揭示了一种晶圆旋转清洗装置，包括基座以及开设在其上的容置空间，所述容置空间内配置有用以容置晶圆的承载组件，所述承载组件的下方设有枢轴设置在所述基座上用以驱动所述晶圆转动和震荡的转辊组件，所述转辊组件的外表面承靠所述晶圆的边缘，且所述转辊组件由固设在所述基座上的驱动组件驱动。本实用新型的有益效果主要体现在：驱动电机依次通过驱动齿轮、主动齿轮和从动齿轮驱动转辊转动，从而通过转辊带动晶圆旋转清洗的效果，该装置结构精巧，装配要求低，能够降低晶圆转速防止容置空间内的液体因摩擦而升温。另外，转辊上开设有的缺口，可增加晶圆震荡的幅度，便于晶圆表面附着的污染物和细小微粒被强制除去，提高良品率。