输气管道及制程废气处理系统

授权

摘要

本实用新型提供一种输气管道及制程废气处理系统，涉及半导体制程废气处理领域。本实用新型通过在管道本体的管道内壁上涂覆保护膜层，形成新型的用于输送制程设备所产生的制程废气的输气管道，使制程废气在该输气管道内传输的过程中仅与表面光滑的保护膜层接触，确保废气输送导流平滑，不产生气体凝滞，降低制程废气在管道内的留存率，避免制程废气对管道本体造成影响，延长管道使用寿命。

基本信息

专利标题：

输气管道及制程废气处理系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021708320.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-14

授权号：

CN213206813U

授权日：

2021-05-14

发明人：

刘玉祥

申请人：

泉芯集成电路制造(济南)有限公司

申请人地址：

山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

张磊

优先权：

CN202021708320.X

主分类号：

F16L9/14

IPC分类号：

F16L9/14 F16L58/02 F16L53/38 F17D1/07 F17D3/01 B01D53/00