本发明涉及泛半导体技术领域，提供一种半导体制程废气处理设备，包括：处理容器、第一进气管和第二进气管，处理容器限制出处理腔；第一进气管与处理腔连通并用于向处理腔内通入待处理气体；第二进气管套设于第一进气管的外侧并连接于处理容器，第二进气管设置气体进口，第二进气管与第一进气管之间形成进气夹层，进气夹层与处理腔连通以用于向处理腔通入第一辅助气体，第一辅助气体的温度与流速中的至少一个高于待处理气体。本发明提出的半导体制程废气处理设备，解决第一进气管的出口端粉尘堆积而易造成堵塞的问题，延长清理保养周期，减小清理的劳动强度，降低设备清洁及维护保养成本，有助于提升生产效率和降低生产成本。