紫外线照射装置
授权
摘要
本实用新型的课题在于提供一种提高照射效率的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置包括多个基板及冷却块。基板中，在前表面排列多个发光元件。冷却块配置于基板的背面，且在内部具有供流体流通的流路。多个基板分别以如下方式配置：被照射体的被照射面与和多个发光元件的排列方向交叉的基板的宽度方向所成的角度θ1为60°以下，并且被照射体与多个发光元件的距离大致相等。
基本信息
专利标题 ：
紫外线照射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021710569.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-17
授权号 ：
CN212617744U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
田中贵章中川幸信
申请人 ：
东芝照明技术株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县横须贺市船越町1丁目201番1
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨文娟
优先权 ：
CN202021710569.4
主分类号 ：
F21S2/00
IPC分类号 ：
F21S2/00 F21V29/50 F21V29/56 F21Y115/10 F21Y115/30
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F21
照明
F21S
非便携式照明装置或其系统
F21S
非便携式照明装置或其系统
F21S2/00
不包含在大组F21S 4/00至F21S 10/00或F21S 19/00中的照明装置系统，例如模块化结构的
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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