紫外线照射单元以及紫外线照射装置
授权
摘要
本实用新型提供一种能够提高散热性的紫外线照射单元以及紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射单元包括光源部、冷却块、光学构件及光学构件壳体。光源部安装排列在基板前表面的多个发光元件。冷却块配置在基板的背面，内部具有供流体流通的流路。光学构件相对于多个发光元件而设置间隔地配置在基板的前表面侧。光学构件壳体具有收容光学构件的收容部与覆盖光源部周围的周壁部，且与冷却块热连接。
基本信息
专利标题 ：
紫外线照射单元以及紫外线照射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921332051.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-16
授权号 ：
CN210511592U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
田中贵章田内亮彦加藤刚雄藤冈纯樱井公人
申请人 ：
东芝照明技术株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县横须贺市船越町1丁目201番1
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晓霞
优先权 ：
CN201921332051.9
主分类号 ：
F21V29/503
IPC分类号 ：
F21V29/503 F21V29/60 F21V29/56 F21Y115/10
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法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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