基板处理装置以及方法、紫外线照射单元的选择方法
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摘要
本发明涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及紫外线照射单元的选择方法，基板处理装置能够在形成于基板的表面的微细结构物的间隙中使紫外线在更大的范围内产生作用，来分解有机物。基板处理装置(10)具有基板保持单元(1)、多个紫外线照射单元(2)以及控制单元(7)。基板保持单元(1)保持基板(W1)。多个紫外线照射单元(2)以彼此不同的光谱向被基板保持单元(1)保持并且形成有多个微细结构物的基板(W1)的该微细结构物之间的间隙照射紫外线。控制单元(7)控制多个紫外线照射单元(2)。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置以及方法、紫外线照射单元的选择方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108666236A
申请号 ：
CN201810168940.X
公开（公告）日 ：
2018-10-16
申请日 ：
2018-02-28
授权号 ：
CN108666236B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
田中孝佳
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
向勇
优先权 ：
CN201810168940.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2018-11-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20180228
申请日 : 20180228
2018-10-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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