多孔阵列制膜组件以及疏水膜
授权
摘要
本实用新型属于膜分离领域，具体涉及一种多孔阵列制膜组件以及疏水膜，多孔阵列制膜组件包括模具以及设置在所述的模具内的纳米凹陷；所述的纳米凹陷的孔径d为50nm‑100nm；孔深h为50nm‑100nm；相邻孔间距D为孔径d的2‑100倍。本申请提供了一种微观表面结构成阵列式规整排列的疏水膜以及制膜组件，通过在模具表面设置规整排列的纳米阵列凹陷，通过抽真空一体成型，从而获得表面拥有规整排列阵列凸起的平板膜，仿生阵列的“荷叶效应”进一步提升其疏水性。
基本信息
专利标题 ：
多孔阵列制膜组件以及疏水膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021729236.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
CN211636031U
授权日 ：
2020-10-09
发明人 ：
孙道宝胡晓宇高旭王晶晶
申请人 ：
天津膜天膜科技股份有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区开发区第十一大街60号
代理机构 ：
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人 ：
杨欢
优先权 ：
CN202021729236.6
主分类号 ：
B01D61/02
IPC分类号 ：
B01D61/02 B01D63/08 B01D67/00 B01D69/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D61/00
利用半透膜分离的方法，例如渗析，渗透，超滤；其专用设备，辅助设备或辅助操作
B01D61/02
反渗透；逆渗透
法律状态
2020-10-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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