一种祛疤离子靶向高能治疗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种祛疤离子靶向高能治疗装置，包括柜体和工作组件，在柜体的一侧设置有安装板，卡块设置有两组，通过两组卡块能够将放置槽固定安装在安装板的一侧，且在放置槽的内部设置有消毒棉片，操作人员能够将祛疤作用结构放置在放置槽的内部，祛疤作用结构的下端面能够与消毒棉片相接触，便于对其进行消毒处理，方便操作者下次使用，旋转电机设置在空槽的内部，且旋转电机的输出端与轴承座相连接，灯杆固定安装在轴承座的上端，操作人员通过利用开关能够使旋转电机带动灯杆进行转动，方便调整调节结构和灯板的照明方向，满足不同角度的照明需要，使用效果较好。
基本信息
专利标题 ：
一种祛疤离子靶向高能治疗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021734117.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN214231548U
授权日 ：
2021-09-21
发明人 ：
吴国平
申请人 ：
吴国平
申请人地址 ：
山东省青岛市黄岛区银沙滩路3号10号楼2单元901室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021734117.X
主分类号 ：
A61B90/00
IPC分类号 ：
A61B90/00
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61B
诊断；外科；鉴定
A61B90/00
在A61B1/00-A61B50/00各组中都不包括的专用于外科或诊断的器械、工具或附件，例如：用于脱位治疗或用于创口边缘的保护
法律状态
2021-09-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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