高能量离子源
授权
摘要
本实用新型提供一种高能量离子源。高能量离子源主要由离子聚焦机构、离子产生与引导机构、电子发射机构、氩气进入机构和角度可调机构组成。在这个核心构造里要产生氩离子，并完成对离子的加速和聚焦。本实用新型的离子产生与引导机构是由引出上覆盖栅网构成，该引导孔相对于氩离子处于负电压，电压值在数百至数千伏特之间可调。离子引导孔不仅可以加速氩离子，也可以约束离子束流的指向；本实用新型的离子聚焦机构采用三个互相绝缘的静电透镜，通过调节中间透镜可变电阻来调节离子束，进行进一步的约束；本实用新型的角度可调机构采用还可保证进气管与进气孔同轴心调形成团簇原子。本实用新型能够很好地约束离子束流的指向。
基本信息
专利标题 ：
高能量离子源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022243115.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-10
授权号 ：
CN212365918U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
郭方准石晓倩朱美强
申请人 ：
大连交通大学
申请人地址 ：
辽宁省大连市沙河口区黄河路794号
代理机构 ：
大连东方专利代理有限责任公司
代理人 ：
徐华燊
优先权 ：
CN202022243115.7
主分类号 ：
H01J3/04
IPC分类号 ：
H01J3/04 H01J3/18 H01J3/08 H01J3/10
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J3/00
通用于两种或两种以上基本类型的放电管或灯的电子光学或离子光学装置的零部件或离子阱的零部件
H01J3/04
离子枪
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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