射频离子源系统及射频离子源控制方法
公开
摘要
本申请涉及一种射频离子源系统及射频离子源控制方法，所述射频离子源系统包括：射频离子源，至少一个与所述射频离子源匹配使用的射频中和器；其中，所述射频离子源的射频控制器与所述射频中和器的阴极控制器通过通信线连接；所述射频控制器用于控制所述射频离子源进行启动和维持运行，并向所述阴极控制器发送射频离子源的控制参数；所述阴极控制器用于根据所述控制参数控制所述射频中和器进行启动和维持运行；上述技术方案，通过射频控制器和阴极控制器即可实现射频中和器跟随射频离子源进行启动和跟着负载的变化而变化，不需要单独设置，全程自动启动和与射频离子源的联机控制，降低了启动和调节过程的操作复杂性，提升了射频中和器的控制效率。
基本信息
专利标题 ：
射频离子源系统及射频离子源控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114302549A
申请号 ：
CN202111670990.6
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴秋生刘伟基冀鸣赵刚易洪波
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
余永文
优先权 ：
CN202111670990.6
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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