射频离子源系统及离子源设备
授权
摘要
本申请涉及一种射频离子源系统，包括：设于真空腔室外的射频匹配网络，以及置于真空腔室内的射频离子源和屏蔽外壳；所述射频离子源连接有用于对射频线圈进行水冷的水冷负载输入线以及与射频匹配网络连接的射频负载线；所述射频离子源的底部与所述屏蔽外壳的一端通过硬连接方式连接；所述屏蔽外壳另一端与安装在真空腔室上的真空法兰接头连接；所述射频负载线和所述水冷负载输入线通过所述屏蔽外壳内部贯穿到真空腔室的外部；所述屏蔽外壳用于固定所述射频离子源以及对所述射频负载线进行屏蔽保护。上述技术方案，使得射频离子源安装更加稳定，不易移位，而且使得水冷负载输入线安装过程也更加简单、方便。本申请还提供一种离子源设备。
基本信息
专利标题 ：
射频离子源系统及离子源设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922501752.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN210866112U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
刘伟基冀鸣赵刚易洪波曾文华刘运鸿吴秋生
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN201922501752.7
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J37/32 H01J37/09
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
