一种射频离子源
授权
摘要
本实用新型公开了一种结构紧凑、性能稳定的射频离子源，包括安装座，安装座上设有陶瓷底座，陶瓷底座上设有陶瓷放电腔，离子引束系统安装在陶瓷放电腔中并固定在陶瓷底座上，安装座上设有上安装架，上安装架中在陶瓷放电腔的外部套设有耦合天线线圈，上安装架上在耦合天线线圈上方设有约束磁场，约束磁场套住陶瓷放电腔上部，上安装架上在约束磁场上方设有中和器，安装座下部设有下安装架，安装座下部设有匹配网络，陶瓷放电腔开口处设有栅网，下安装架上设有两个通过线缆分别与耦合天线线圈及匹配网络连接的线缆接头，陶瓷放电腔中设有将等离子气体往外吹送的送气管。
基本信息
专利标题 ：
一种射频离子源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920707277.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-17
授权号 ：
CN209811889U
授权日 ：
2019-12-20
发明人 ：
施春燕
申请人 ：
苏州至臻精密光学有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市大新镇海坝路苏州至臻精密光学有限公司
代理机构 ：
北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李宏伟
优先权 ：
CN201920707277.6
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B41/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2019-12-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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