离子源装置
授权
摘要
本申请涉及一种离子源装置，包括：多个霍尔离子源，至少一个中空阴极以及基座；所述霍尔离子源分布安装在所述基座上，所述中空阴极设于距离所述霍尔离子一设定位置处；多个所述霍尔离子源同时进行覆盖，所述中空阴极为至少一个霍尔离子源提供中和电子，且至少一个中空阴极为多个霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案，通过多个霍尔离子源的设计方案，可以提高覆盖范围，且采用共用中空阴极设计，也降低了设备成本。
基本信息
专利标题 ：
离子源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021343045.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN212991033U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
冀鸣刘运鸿刘伟基范奕生赵刚易洪波
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN202021343045.6
主分类号 ：
H01J27/14
IPC分类号 ：
H01J27/14 H01J27/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J27/00
离子束管
H01J27/02
离子源；离子枪
H01J27/08
应用电弧放电的
H01J27/14
用外加磁场的其他电弧放电离子源
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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