离子源供气结构及离子源装置
授权
摘要
本申请涉及一种离子源供气结构及离子源装置，包括：设置在阳极部件周围的气流回路，以及设于所述阳极部件上且与所述气流回路连通的出气口；其中，所述出气口沿所述阳极部件的中部分布；所述气流回路接入外部的工艺气体，将所述工艺气体输送至各个所述出气口，并通过所述出气口从阳极部件中部导出。该技术方案，将工艺气体输送至各个所述出气口并从阳极部件中部导出，使得工艺气体在电离腔中能够得到更加充分的反应，提高了离子源的电离效率，而且避免了工艺气体沉积，减少对磁铁上部的保护器件的腐蚀。
基本信息
专利标题 ：
离子源供气结构及离子源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021397032.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-15
授权号 ：
CN212209413U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
刘伟基冀鸣赵刚易洪波吴秋生刘运鸿
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN202021397032.7
主分类号 ：
H01J27/14
IPC分类号 ：
H01J27/14 H01J27/02
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J27/00
离子束管
H01J27/02
离子源；离子枪
H01J27/08
应用电弧放电的
H01J27/14
用外加磁场的其他电弧放电离子源
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212209413U.PDF
PDF下载
