离子源装置
授权
摘要
本申请涉及一种离子源装置，包括：一霍尔离子源以及至少两个中空阴极；各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处；各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子，且在其中任何一个中空阴极失效时，切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案，实现了中空阴极的备份功能，避免了在镀膜使用过程中，当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况，从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化，实现离子源长时间不间断工作。避免中和器失效导致产品报废的情况。
基本信息
专利标题 ：
离子源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021558773.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-30
授权号 ：
CN213124372U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
刘伟基赵刚冀鸣易洪波
申请人 ：
中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区科技东路39号之二219、220室
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN202021558773.9
主分类号 ：
H01J27/14
IPC分类号 ：
H01J27/14 H01J27/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J27/00
离子束管
H01J27/02
离子源；离子枪
H01J27/08
应用电弧放电的
H01J27/14
用外加磁场的其他电弧放电离子源
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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