离子源（霍尔）
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：离子源(霍尔)。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于固体表面等离子体处理、真空镀膜、等离子辅助CVD镀膜。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.后视图与主视图对称，省略后视图。
基本信息
专利标题 ：
离子源（霍尔）
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130882304.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN307391274S
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
缪同群谢圣鸣
申请人 ：
上海新产业光电技术有限公司
申请人地址 ：
上海市奉贤区新杨公路1566号6幢
代理机构 ：
北京清大紫荆知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑纯
优先权 ：
CN202130882304.6
主分类号 ：
15-99
IPC分类号 ：
15-99
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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