一种霍尔离子源装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种霍尔离子源装置，包括磁钢组件和工作机构，磁钢组件的下端安装有工作机构；在底座的底端设置有吸盘，使得装置在进行真空镀膜时，能够利用吸盘及时地吸住地面或桌面，避免发生晃动或倾斜影响镀膜的效果；连接块的上端面开设有固定孔，固定孔与主螺栓相互配合，使得整个装置可通过弧形卡槽与弧形卡块和固定孔与主螺栓拆卸成三大部分。该装置在壳体的内腔中安装有导热板和若干辅助螺栓，导热板的上端面开设有若干通孔，辅助螺栓穿透通孔且其底端外壁上套接有螺母，使得导热板在损坏时，操作者能够先旋下螺母，将导热板利用通孔从辅助螺栓上卸下即可，无需对整个冷却机构进行维修，节省了维修成本。

基本信息

专利标题：

一种霍尔离子源装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020882965.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-22

授权号：

CN211858574U

授权日：

2020-11-03

发明人：

陈基平陈宏忠

申请人：

福建科彤光电技术有限公司

申请人地址：

福建省福州市晋安区福光路71号(福兴经济开发区)

代理机构：

福州盈创知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

吴德兰

优先权：

CN202020882965.9

主分类号：

H01J27/14

IPC分类号：

H01J27/14