离子源及使用所述离子源的模具抛光装置
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种离子源及使用所述离子源的模具抛光装置。所述模具抛光装置包括一离子源，所述离子源用于发射进行抛光的离子束，所述离子源包括一腔体及设置于所述腔体中的一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极，所述阴极靠近所述阴极灯丝设置，所述屏极、加速极及可调屏极依次远离所述阴极设置，所述可调屏极包括一通孔，所述通孔大小及形状可调，从而可利用所述通孔调节射出的离子束截面大小及形状。利用本明的模具抛光装置，可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2～1纳米的平滑表面。
基本信息
专利标题 ：
离子源及使用所述离子源的模具抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1983504A
申请号 ：
CN200510120697.7
公开（公告）日 ：
2007-06-20
申请日 ：
2005-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈杰良
申请人 ：
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请人地址 ：
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200510120697.7
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J27/02 B23H1/00 B23H9/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2018-02-02 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01J 37/08
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20100526
终止日期 : 20161214
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20100526
终止日期 : 20161214
2010-05-26 ：
授权
2008-07-02 ：
实质审查的生效
2007-06-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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