一种电介质刻蚀机气体分配器结构

授权

摘要

本实用新型涉及电介质刻蚀机设备技术领域，具体涉及一种电介质刻蚀机气体分配器结构，包括分配板，分配板的顶部开设有分配腔，分配腔的底壁均匀开设有第一分配孔，第一分配孔的底部轴心处开设有第二分配孔，第一分配孔的底部周向开设有第三分配孔，本实用新型提供了一种电介质刻蚀机气体分配器结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了存在气体分配均匀效果差，导致整个晶片表面的刻蚀或沉积的速率和均匀性都有很大的差异，从而影响晶片加工的良品率的问题。

基本信息

专利标题：

一种电介质刻蚀机气体分配器结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021738329.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-19

授权号：

CN212542349U

授权日：

2021-02-12

发明人：

陆桥宏任斌张伏贵任志强王小艳

申请人：

无锡展硕科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市梁溪区市会北路26-18

代理机构：

无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨立秋

优先权：

CN202021738329.5

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32