一种用于生物技术产生的高纯气体的注入装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于生物技术产生的高纯气体的注入装置，它包括储气罐、气瓶、第一电磁阀、第二电磁阀和长晶设备，储气罐的出气口通过管路连接在气瓶的下端进气口且管路上安装有第一电磁阀，气瓶上端出气口通过管路连接长晶设备的进气端且管路上安装有第二电磁阀。优点是设计简单，使用方便，通过把储气罐内高压气体输入气瓶的底部进行挤压，气瓶内的气体则从上端口部排出，通过管路进入长晶设备，避免气体的污染，保证长晶质量。
基本信息
专利标题 ：
一种用于生物技术产生的高纯气体的注入装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021749844.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN213037842U
授权日 ：
2021-04-23
发明人 ：
吴志亮梁维
申请人 ：
江苏元素六钻石科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市如皋市城南街道电信东一路6号
代理机构 ：
北京汇信合知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙腾
优先权 ：
CN202021749844.3
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C30B25/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-04-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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