通道结构
授权
摘要
本申请实施例公开了一种通道结构，包括：两道相对设立的侧墙体，每道所述侧墙体包括至少一块立板以及至少两根间隔设置的抗滑桩，所述立板的两端分别与两根相邻的所述抗滑桩固定连接；底板，所述底板的两侧连接两道所述侧墙体的所述立板与所述抗滑桩以形成位于地层下的槽形通道；以及设置在所述底板下方的支撑柱，所述支撑柱支撑在两道所述侧墙体的对应的所述抗滑桩之间。本申请实施例的通道结构，可使得通行能力及通行条件好。
基本信息
专利标题 ：
通道结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021782020.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-24
授权号 ：
CN212690051U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
刘志明周青爽李慈航李小和孙红林郭建湖赵晋乾朱树念王亚飞薛峰张驰付明李睿
申请人 ：
中铁第四勘察设计院集团有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
何娜
优先权 ：
CN202021782020.6
主分类号 ：
E21D11/10
IPC分类号 ：
E21D11/10 E21D9/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D11/00
隧道、平硐或其他地下洞室，例如，地下大型硐室的衬砌；其衬砌物；现场制衬砌物，例如，通过组装
E21D11/04
用建筑材料衬砌
E21D11/10
用混凝土现场浇注；为此所用的模板或其他设备
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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