通道结构及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种具有形成通道的沟槽的通道结构及其制造方法。在微型反应器中，由第一基板(11)和层叠在第一基板(11)上的中间基板(12)形成沟槽，而且该沟槽的开口由用作盖元件的第二基板(13)封闭以形成供流体流动的微型通道。中间基板(12)包括通道区域(120)，该通道区域(120)包括：形成部分微型通道的通孔；以及板状连接部(122)，其比该通道区域(120)两侧的部分薄，用于沿纵向在微型通道的预定位置使所述两侧的部分连接。在该微型反应器中，在形成和处理中间基板(12)的过程中可容易地将中间基板(12)作为一个元件进行处理，并可简化制造该微型反应器的过程。
基本信息
专利标题 ：
通道结构及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1766645A
申请号 ：
CN200510106329.7
公开（公告）日 ：
2006-05-03
申请日 ：
2005-09-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三宅孝志西洼宏昭
申请人 ：
大日本网目版制造株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
王玉双
优先权 ：
CN200510106329.7
主分类号 ：
G01N35/00
IPC分类号 ：
G01N35/00 G01N31/20 C12M1/00 C12N15/00 C12Q1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N35/00
不限于用G01N1/00至G01N33/00中任何单独一组提供的方法或材料所进行的自动分析；及材料的传送
法律状态
2009-12-30 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-06-28 ：
实质审查的生效
2006-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
