成像系统
授权
摘要
本实用新型涉及光斑对准技术领域，具体涉及一种成像系统，包括：光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；成像镜头组件，形成在光源与投影面之间的光路上，光源发出的光经过成像镜头组件后在投影面上形成目标光斑；调节组件，与成像镜头组件连接，调节组件用于基于目标光斑与度量尺寸调节成像镜头组件的参数使得度量尺寸与目标光斑匹配，以确定成像镜头组件的参数；其中，参数包括成像镜头组件内透镜之间的距离，或成像镜头组件与光源之间的距离。本实用新型提供的成像系统，直接对照射至所述曝光芯片上的光斑进行调整，无需通过其他光学镜头，调整的精度更高、时长更短、光斑匹配的可靠性更高。
基本信息
专利标题 ：
成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021800057.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN212515347U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
于向前陈国军吴景舟马迪
申请人 ：
江苏迪盛智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金山南路868号锐晶大厦2号楼2层
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
张琳琳
优先权 ：
CN202021800057.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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