一种新型硅片厚度测量工具
授权
摘要

本实用新型涉及一种新型硅片厚度测量工具,所属硅片加工检测设备技术领域,包括测量壳体,所述的测量壳体上端设有激光测距组件,所述的测量壳体内设有测量槽,所述的测量槽下端设有激光接收传输器,所述的测量槽两侧端均设有若干呈阵列式分布的限位气缸,所述的限位气缸与测量槽间设有与限位气缸呈一体化连接固定的固定板。所述的激光测距组件包括激光支架,所述的激光支架一侧下端与测量槽间设有激光头安装板,所述的激光头安装板上设有一对位于测量槽前后两侧的激光头,所述的激光头安装板与激光支架间设有激光高度调节气缸。具有结构简单、操作方便和运行稳定性好的特点。有效避免损伤硅片表面,无需手动按压,避免裂片产生。

基本信息
专利标题 :
一种新型硅片厚度测量工具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021810067.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-26
授权号 :
CN212843426U
授权日 :
2021-03-30
发明人 :
沈福林
申请人 :
杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市钱塘新区东垦路888号
代理机构 :
杭州融方专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
沈相权
优先权 :
CN202021810067.9
主分类号 :
G01B11/06
IPC分类号 :
G01B11/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2021-03-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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