一种超声空化辅助多喷嘴射流抛光装置
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摘要

本实用新型公开了一种超声空化辅助多喷嘴射流抛光装置,包括自聚焦超声波换能器和超声聚焦壳体;自聚焦超声波换能器为一种凹球面压电陶瓷;超声聚焦壳体的内腔为锥形腔,用来将自聚焦超声波换能器发出的声波聚焦于一点;超声聚焦壳体的侧壁上设有与供液管连通的抛光液供液口,超声聚焦壳体的底部装配有射流喷嘴,射流喷嘴通过端盖与超声聚焦壳体为可拆卸连接,射流喷嘴包括有多个喷孔。本实用新型中具有多个喷孔个数、喷孔布局及孔径不同的射流喷嘴,进行抛光加工时,可选择合适的射流喷嘴,以适应不同的工艺需求。本实用新型可以有效的增大待加工表面作用区域、提高加工效率,并适用于大口径超光滑表面抛光加工和微观特殊形貌表面加工制造。

基本信息
专利标题 :
一种超声空化辅助多喷嘴射流抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021826854.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-27
授权号 :
CN212471124U
授权日 :
2021-02-05
发明人 :
曹中臣姜向敏张晓峰林彬
申请人 :
天津大学
申请人地址 :
天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区
代理机构 :
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 :
李丽萍
优先权 :
CN202021826854.2
主分类号 :
B24C3/02
IPC分类号 :
B24C3/02  B24C5/04  B24C1/08  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24C
磨料或微粒材料的喷射
B24C3/00
磨料喷射机床或装置;车间
B24C3/02
以部件相互装配的排列为特征的
法律状态
2021-02-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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