一种浅层立柱装置
授权
摘要
本实用新型提出一种浅层立柱装置，下部埋设于地层中，包括：混凝土层、固定部以及立柱；混凝土层呈圆柱体，上表面设有圆柱形凹槽，埋设于地层中；固定部下部与混凝土层的圆柱形凹槽相匹配，固定部下部为带有底面的圆柱形管道，管道内壁设置有限位块；固定部下部埋设于混凝土层的圆柱形凹槽中；立柱放置于固定部的圆柱形凹槽中，并通过固定部上的限位块固定。本实用新型提出的一种浅层立柱装置，结构稳定、承载能力强，并且能够快速建设完成，有效缩短了建筑工程的建设时长。
基本信息
专利标题 ：
一种浅层立柱装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021827297.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
CN213417875U
授权日 ：
2021-06-11
发明人 ：
谢志刚
申请人 ：
四川中科正旋建设工程有限责任公司
申请人地址 ：
四川省成都市武侯区武科东二路460号7栋14层1406号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021827297.6
主分类号 ：
E02D27/42
IPC分类号 ：
E02D27/42
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D27/00
作为下部结构的基础
E02D27/32
特殊用途的基础
E02D27/42
立杆、塔或烟囱用的基础
法律状态
2021-06-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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