大流量过流式紫外线杀菌装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种大流量过流式紫外线杀菌装置，包括腔体外壳、杀菌腔体、光学组件，所述杀菌腔体位于所述腔体外壳内，所述光学组件位于所述杀菌腔体内，所述腔体外壳与所述杀菌腔体之间的空间构成第一流动区域，所述杀菌腔体的内部空间构成第二流动区域，所述第一流动区域与所述第二流动区域连通；所述腔体外壳内表面覆盖有紫外线反射层，所述杀菌腔体的材质为石英玻璃，所述光学组件包括多个灯珠模组。本实用新型的目的在于解决现有过流式紫外线装置杀菌率不稳定、深紫外光利用率低的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
大流量过流式紫外线杀菌装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021849347.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
CN213171571U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
张明辉刘芳孙雷蒙杨丹
申请人 ：
华引芯（武汉）科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号未来城龙山创新园一期A5北区4栋7层701单元706室
代理机构 ：
杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张宇娟
优先权 ：
CN202021849347.0
主分类号 ：
C02F1/32
IPC分类号 ：
C02F1/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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