水平装置
授权
摘要
本实用新型提供一种水平装置，适用于曝光设备，曝光设备包括光掩模。水平装置包括底座、多个导柱、载台、驱动单元及定位模块。各导柱可升降地设置于底座上。载台配置于这些导柱上方且适于承载晶圆。各导柱的顶端可动地支撑载台，以使载台通过这些导柱而万向地连接于底座。驱动单元适于驱动底座上升，以使载台上的晶圆往上接触光掩模。定位模块配置于底座且适于在载台上的晶圆接触光掩模之后定位载台。本实用新型的水平装置可使晶圆与光掩模之间有良好的水平度。
基本信息
专利标题 ：
水平装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021872915.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-01
授权号 ：
CN212907684U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
吴政伦林秉锋
申请人 ：
台湾生捷科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹北市台元街22号6楼
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
张娜
优先权 ：
CN202021872915.9
主分类号 ：
H01L21/68
IPC分类号 ：
H01L21/68 G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/68
用于定位、定向或对准的
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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