一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统，包括：第一、第二处理单元、总池体、出水渠和泵房设备间；其中，第一、第二处理单元并列设置于总池体；第一、第二处理单元的结构相同；泵房设备间设置在第一、第二处理单元前端之间的总池体内；第一、第二处理单元均包括：依次连接的格栅渠、粉末活性炭加载池、PAC投加池、磁粉加载池、絮凝池和高效斜管沉淀池；出水渠设置在总池体的后端外，与第一处理单元和第二处理单元的出水端连接。通过将各部分泵房合建，采用紧凑型布置结构，节省占地合建于总池体内，能实现紧凑型布置结构，节省占地，由于采用了两套并列的处理单元不仅处理效率高，而且均能达到较好的处理效果。

基本信息

专利标题：

一种紧凑型加炭加磁介质混凝沉淀深度处理系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021900942.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-03

授权号：

CN213388209U

授权日：

2021-06-08

发明人：

闫萍王发珍王艳关德群

申请人：

北控水务（中国）投资有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区望京东园七区18号楼8层801内808

代理机构：

北京凯特来知识产权代理有限公司

代理人：

郑立明

优先权：

CN202021900942.2

主分类号：

C02F9/12

IPC分类号：

C02F9/12