一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台，包括机床、抛光辊子、进给单元、传感器。抛光辊子安装在机床上，进给单元包括往复进给机构、第一微进给机构、第二微进给机构；往复进给机构驱动工件往复运动均匀抛光，第一和第二微进给机构的位移可精确调整被夹持工件与抛光辊子的高度差及间距，形成微小间隙；传感器包括电涡流位移传感器和压力传感器，电涡流位移传感器用于检测工件与抛光辊子的间距，压力传感器用于实时监测抛光加工流体动压力。该实验平台各机构设计完善，辅以位移、压力测控系统，各工艺参数柔性可调，可实现流体动压抛光波纹度机理与控制的深入研究。
基本信息
专利标题 ：
一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021913545.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-04
授权号 ：
CN213123522U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
许鑫祺文东辉沈思源章益栋王辉
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区潮王路18号
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
周希良
优先权 ：
CN202021913545.9
主分类号 ：
G09B25/02
IPC分类号 ：
G09B25/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G09
教育；密码术；显示；广告；印鉴
G09B
教育或演示用具；用于教学或与盲人、聋人或哑人通信的用具；模型；天象仪；地球仪；地图；图表
G09B25/00
用于在G09B23/00组中不包括的用途的模型，例如演示用的原尺寸装置
G09B25/02
工业生产过程的；机器的
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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