一种离子膜烧碱装置中氯酸盐分解槽的后续处理结构
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摘要
本申请涉及一种离子膜烧碱装置中氯酸盐分解槽的后续处理结构，包括氯酸盐分解槽（1），通过带有阀门的三通并联设在氯酸盐分解槽（1）氯气管道末端的废气处理（4）和氯气总管（5）以及设在氯酸盐分解槽（1）氯水管道末端的氯水槽（3），氯水管道上设有几字型高封管（2）。本申请中，一方面将氯酸盐分解槽出来的氯气送至氯气总管进行回收利用，另一方面氯酸盐分解槽至氯水槽的管道上设有几字型高封管，利用液封产生原理防止总管氯气借助氯酸盐分解槽通过溢流管倒入氯水槽，使分解槽内氯酸盐分解出的氯气统一并入氯气总管，既有效解决氯酸盐分解槽压力与氯气总管压力不相匹配造成的安全问题，又降低了废气处理的吸收碱耗。
基本信息
专利标题 ：
一种离子膜烧碱装置中氯酸盐分解槽的后续处理结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021959514.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
CN213113537U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
常艳琴王金峰沙剑王鑫常培珑刘成军潘存鹏田红军王妍李作龙
申请人 ：
金川集团股份有限公司
申请人地址 ：
甘肃省金昌市北京路
代理机构 ：
兰州中科华西专利代理有限公司
代理人 ：
贺云美
优先权 ：
CN202021959514.7
主分类号 ：
C25B1/46
IPC分类号 ：
C25B1/46 C25B9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C23G5/00
金属材料用其他方法清洗或除油；金属材料用有机溶剂清洗或除油的设备
C23G5/06
使用乳化液
C25B1/46
在隔膜电解槽中
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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