流体杀菌装置
授权
摘要
本实用新型要解决的技术问题在于提供一种能够获得有效的杀菌效果的流体杀菌装置。实施方式所涉及的流体杀菌装置具备处理室、光源部及供给流路。处理室对流体进行处理。光源部具有光源、冷却块及介质流路。光源朝向处理室照射紫外线。冷却块冷却光源。介质流路设置在冷却块的内部并且供冷却介质流过。供给流路连接介质流路与处理室，并且使流过介质流路之后的冷却介质作为流体供给到处理室。
基本信息
专利标题 ：
流体杀菌装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021981958.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN213326825U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
樱井公人加藤刚雄
申请人 ：
东芝照明技术株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
郝传鑫
优先权 ：
CN202021981958.0
主分类号 ：
C02F1/32
IPC分类号 ：
C02F1/32 A61L2/10 A61L2/26 A61L9/20
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213326825U.PDF
PDF下载
