显影系统及显影设备
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摘要
本实用新型公开一种显影系统及一种显影设备，显影系统用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，其包括一无尘腔体、设置于无尘腔体中的显影设备。显影设备包含一滚轮固定装置、一浸润装置、一移动装置、一转动装置以及一冲洗装置。浸润装置用来容纳一显影剂。转动装置能用来在光阻层被浸润装置中的显影剂浸润时，以浸润速度带动金属滚轮转动而令光阻层被显影剂均匀浸润，使受到曝光的部分光阻层溶于显影剂中，进而形成一图案化光阻层。转动装置能用来在冲洗装置以水冲洗分布于图案化光阻层的显影剂时，以浸润速度带动金属滚轮转动。本实用新型能用来避免图案化光阻层于其他制程中发生其他化学反应，使金属滚轮的制造合格率上升。
基本信息
专利标题 ：
显影系统及显影设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021992304.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN212781667U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
林刘恭
申请人 ：
光群雷射科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
赵永
优先权 ：
CN202021992304.8
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/30
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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