用于蜡层的检测处理设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种用于蜡层的检测处理设备，包括施蜡装置和机台，施蜡装置设置在机台上，通过施蜡装置将蜡滴落在抛光盘的表面，通过设置在机台上的驱动机构驱动抛光盘旋转，使得抛光盘的表面形成蜡层。检测处理设备还包括：图像采集系统和图像分析系统，图像采集系统用于采集蜡层的表面图像信息，图像采集系统与图像分析系统之间电连接，以将蜡层的表面图像信息传输至图像分析系统，图像分析系统用于对蜡层的表面图像信息进行分析处理，并判断蜡层表面的平整度是否达标。根据本实用新型实施例的用于蜡层的检测处理设备，可以准确地检测并判断蜡层的表面的平整度是否达标，并且检测结果较为可靠，从而可以提高晶片的抛光良率。

基本信息

专利标题：

用于蜡层的检测处理设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021993328.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-11

授权号：

CN213208942U

授权日：

2021-05-14

发明人：

蔡伟耀卢健平

申请人：

徐州鑫晶半导体科技有限公司

申请人地址：

江苏省徐州市经济技术开发区鑫芯路1号

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

欧阳高凤

优先权：

CN202021993328.5

主分类号：

G01B11/30

IPC分类号：

G01B11/30