湿化学清洗设备的风刀系统和湿化学清洗设备
授权
摘要
本申请涉及一种湿化学清洗设备的风刀系统和湿化学清洗设备，所述风刀系统包括：主管路、分管路和至少一个风刀组；所述分管路的一端与所述主管路连接，所述分管路上至少连接一个所述风刀组，所述主管路和所述分管路用于向所述风刀组输送压缩空气；所述风刀组包括风刀和对接管道；所述风刀上设置有沿轴向排列的多个气孔，压缩空气从所述气孔吹出；所述对接管道的一端与所述风刀连接，另一端与所述分管路连接。本申请的方案从压缩空气的主管路铺设引出一条或多条压缩空气分管路，可将多个风刀组分别设置在不同的分管路上，从而提高各分管路的风压及其稳定性，改善湿化学清洗吹扫效果，提升电池片吹干和清洗效果。
基本信息
专利标题 ：
湿化学清洗设备的风刀系统和湿化学清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022004987.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
CN213401102U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
王贵梅王少丽王盼
申请人 ：
晶澳太阳能有限公司
申请人地址 ：
河北省邢台市宁晋县晶龙大街
代理机构 ：
北京市万慧达律师事务所
代理人 ：
赵越
优先权 ：
CN202022004987.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L31/18 B08B5/02 B08B3/08 F26B21/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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