本实用新型属于晶体生产领域，尤其是一种晶体生产加工用循环冷却装置，针对现有的采用冷水直接和晶体接触的方式进行冷却，冷水和晶体直接接触会影响晶体的性能，影响晶体生产加工的质量的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有冷却箱，且冷却箱上设有腔室，所述腔室的一侧内壁上固定安装有冷却通道，且冷却通道的外侧固定套设有冷却盘管，所述底座的顶部固定安装有水箱，且水箱位于冷却箱的一侧，冷却箱和冷却盘管之间密封连通有同一个循环冷却组件，本实用新型较之冷水接触式的晶体冷却装置，冷水会带走晶体热量的同时不和晶体发生接触，不会对晶体的性能造成影响，大大提高了晶体的生产质量。