一种新型抛光滚筒
授权
摘要
本实用新型公开了一种新型抛光滚筒,本实用新型属于抛光滚筒技术领域,特别涉及一种新型抛光滚筒。该抛光滚筒包括滚筒主体和用于控制和带动滚筒主体转动的控制结构,所述控制结构与滚筒主体驱动连接,所述控制结构里设置有过载保护电路;滚筒主体上设置有装料口与料口盖,料口盖盖合在装料口上形成密封结构。相比于现有技术,首先,在本实用新型的抛光滚筒设置有过载保护电路,能够对电机进行过载短路保护,有效的延长电机使用寿命;其次,该抛光滚筒可将抛光物料放置在滚筒主体内,且滚筒主体设置有密封结构,可实现将待抛光物浸没于液体中进行抛光;最后,本实用新型结构简单、成本低、便于推广和使用。
基本信息
专利标题 :
一种新型抛光滚筒
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022024839.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-16
授权号 :
CN213106267U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
邱俊鑫罗鹏武松伟
申请人 :
深圳市迈捷生命科学有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市坪山区坑梓街道生物医药基地兰竹东路北侧国药集团致君坪山制药工业园9号厂房
代理机构 :
深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王志强
优先权 :
CN202022024839.2
主分类号 :
B24B31/02
IPC分类号 :
B24B31/02 B24B31/12
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B31/00
用工件或磨料散放在滚筒内的滚磨装置或其他装置进行工件表面抛光或研磨的机床或装置;及其附件
B24B31/02
使用旋转滚筒
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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