一种薄膜镀铝装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种薄膜镀铝装置，包括：镀铝鼓、蒸发舟和两挡板，镀铝鼓的下端设置有待镀薄膜，镀铝鼓的下方设置有蒸发舟，两挡板均设置于蒸发舟与镀铝鼓之间，两挡板分别设置于蒸发舟的上方的两端，两挡板分别设置于镀铝鼓的下方的两端，两挡板均呈弧形设置，两挡板靠近薄膜的一端的水平高度高于挡板远离薄膜的一端，两挡板的下表面均形成一用于阻挡多余铝蒸汽的回收通道。通过对本实用新型的应用，方便生产者对铝渣进行集中的回收和清理，铝渣不易在挡板的下表面堆积，进一步提高了生产效率，避免生产劳动力的浪费；更容易对多余的铝蒸汽进行阻挡，提高了镀膜质量，且本实用新型结构简单，易于生产。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜镀铝装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022079382.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN214300339U
授权日 ：
2021-09-28
发明人 ：
刘念张华
申请人 ：
上海睿途新材料科技有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区泖港镇中民路599弄1号
代理机构 ：
上海申新律师事务所
代理人 ：
沈栋栋
优先权 ：
CN202022079382.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24 C23C14/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-09-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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