足底按摩装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种足底按摩装置，其包括一个底座，所述底座具有一个用于放置足部的上板，在所述上板的上面具有两个自所述上板向下延伸的安装槽，所述安装槽内设置有一个捶打按摩组件，所述捶打按摩组件包括一个线圈固定单元和一个穿设在线圈固定单元的磁铁振动单元，所述线圈固定单元包括线圈，所述磁铁振动单元的磁体穿设于线圈内，通过线圈中交变电流耦合的磁场激发所述磁铁振动单元产生震动。其解决了现有技术中带敲打功能的足底按摩装置结构复杂的问题，本实用新型所述的足底按摩装置具有结构简单、锤击力度适宜，按摩效果好的优点。
基本信息
专利标题 ：
足底按摩装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022082666.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN212308421U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
陈世辉陈浩陶亮
申请人 ：
陈世辉;陈浩;陶亮
申请人地址 ：
北京市大兴区天贵大街3号501
代理机构 ：
北京瑞成兴业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李慧
优先权 ：
CN202022082666.X
主分类号 ：
A61H39/04
IPC分类号 ：
A61H39/04 A61H23/02 A61N5/06
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61H
理疗装置，例如用于寻找或刺激体内反射点的装置；人工呼吸；按摩；用于特殊治疗或保健目的或人体特殊部位的洗浴装置
A61H39/00
理疗用的定位或刺激人体特定反射点的仪器，例如针刺
A61H39/04
压迫这样一些反射点的仪器，例如指压穴位按摩
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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