本申请涉及一种接触式清洗装置，包括封围机构以及清洗滚柱；清洗滚柱能够绕其中心轴线旋转，并在旋转过程中使其外柱面依次经清洗位置及自洗位置；清洗滚柱处于清洗位置的外柱面用于直接或间接擦洗物件表面；封围机构与清洗滚柱在自洗位置共同形成封闭式自洗腔，清洗滚柱处于自洗位置的外柱面为封闭式自洗腔的局部清洗滚柱构造面，并得到封闭式自洗腔内清洗水自洗，清洗滚柱在进入和移出所述自洗位置时，受到排水挤压，且防止封闭式自洗腔内的清洗水外漏。本申请解决了在擦洗物件表面及水洗清洗滚柱外柱面、与清洗水不漏出接触式清洗装置之间，只能兼顾一头的问题，且在任何摆放状态均不淌水、不漏水，都可以正常使用。