光学狭缝机构及高光谱成像系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种光学狭缝机构及高光谱成像系统，属于光学仪器技术领域，光学狭缝机构包括平凸透镜、反射膜，平凸透镜的焦距为F；反射膜设于平凸透镜的平面上，反射膜上设有狭缝，狭缝的宽度为W，狭缝的长度为L，F/W小于100，F/L小于10大于1；高光谱成像系统设有上述光学狭缝机构。本实用新型提供的光学狭缝机构及高光谱成像系统，使得发散光线汇聚，从而更利于后续准直光路的光能利用，减小后端光学系统口径。
基本信息
专利标题 ：
光学狭缝机构及高光谱成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022109382.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
CN213067939U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
梁敏勇崔厚欣尚永昌李玉国冯浩邓家春
申请人 ：
河北先河环保科技股份有限公司
申请人地址 ：
河北省石家庄市高新区湘江道251号
代理机构 ：
河北国维致远知识产权代理有限公司
代理人 ：
郝伟
优先权 ：
CN202022109382.5
主分类号 ：
G01J3/28
IPC分类号 ：
G01J3/28 G01J3/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/28
光谱测试
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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