一种用于硅电极氧化的治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于硅电极氧化的治具，属于半导体硅材料制造技术领域，包括若干个上下堆叠的环形支撑盘，所述环形支撑盘的内侧设有若干个用于放置硅电机的支撑块，所述环形支撑盘上设有若干个贯通其内侧和外侧的气体交换窗，所述环形支撑盘的上端设有上卡接环，所述环形支撑盘的下端设有可以与所述上卡接环适配卡接的下卡接环，通过所述支撑块可以实现治具与硅电极的点接触，从而提高了硅电极与周围氧化环境的接触面积，从而提高了氧化效率，解决了现有技术中多个硅电极在立式炉内氧化时不易固定，氧化时表面无法完全暴露在氧化环境中，导致氧化不充分的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于硅电极氧化的治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022146482.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213515079U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
韩颖超马志杰余正飞李长苏
申请人 ：
杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区滨康路668号C幢
代理机构 ：
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 ：
郑汝珍
优先权 ：
CN202022146482.5
主分类号 ：
F27D5/00
IPC分类号 ：
F27D5/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D5/00
炉内装料的支架、屏板或类似装置
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
