一种凸轮结构插板阀装置
授权
摘要
本实用新型为一种凸轮结构插板阀装置，涉及插板阀领域，解决了在连续真空磁控溅射镀膜装置中，大部分使用转板阀装置和插板阀装置来进行进、出口隔离，而以前的插板阀都是使用的气缸或波纹管驱动结构，因温度、疲劳、外力等作用下，造成气缸密封川老化漏气、波纹管疲劳破裂，极易造成内部泄漏，瞬间破坏箱体真空度，使分子泵跳停，损坏分子泵，箱体内的产品全部报废，在实际应用存在很大隐患的问题。技术特征包括：插板阀；第一真空箱体，所述第一真空箱体安装于插板阀上。彻底解决了连续真空磁控溅射镀膜装置中内漏问题(内漏用检漏仪检测困难)，将使连续真空磁控溅射镀膜线的稳定性和真空环境得到质的提升。
基本信息
专利标题 ：
一种凸轮结构插板阀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022165372.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
CN213538093U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
李小军张华林唐鑫光宣标
申请人 ：
深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区龙田街道兰竹东路6号
代理机构 ：
深圳余梅专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
陈余才
优先权 ：
CN202022165372.3
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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