本实用新型公开了一种可调节内部支撑架的真空炉，包括炉盖、主体、底座、反应箱和支架，所述主体的底端固定有底座，所述主体顶部的一端固定有抽气孔，所述主体的一侧铰接有炉盖，所述主体内部的底端固定有反应箱，所述反应箱内部的底端固定有支架，所述支架的顶端设置有调节结构，所述炉盖的内侧壁设置有隔热结构。本实用新型通过在可调节内部支撑架的真空炉的炉盖一侧设置密封结构，能够加强真空炉内部的密封性能，在对真空炉内进行真空处理的时候，防止空气从炉盖与主体闭合处存在的缝隙处进入真空炉的内部，保障了真空炉内部的真空效果，从而使得加工出来材料的性能更加优良，提升了整体的加工质量，优化了整体的使用性能。