一种高分子材料缓冲垫
授权
摘要
本实用新型公开了一种高分子材料缓冲垫，包括缓冲层，第一离型膜层，第二离型膜层；第一离型膜层和第二离型膜层均包括光滑面和粗糙面，粗糙面附着于缓冲层上；缓冲层为无纺压缩纸膜层；第一离型膜层或第二离型膜层由FEP、ETFE中的一种材料制成；本实用新型的高分子材料缓冲垫由高分子材料组成，具备良好的缓冲、离型的作用，能够为高可靠性电路板的热压合提供良好的辅助缓冲垫，在应用过程中能够有效防止牛皮纸、无纺纸形成的起毛、粘附、碎屑等问题，且缓冲垫可反复使用，有效节约加工成本。
基本信息
专利标题 ：
一种高分子材料缓冲垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022171342.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
CN212910271U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
蔡高明杨桂林
申请人 ：
深圳市瑞昌星科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道骏业工业园A11栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022171342.3
主分类号 ：
H05K3/46
IPC分类号 ：
H05K3/46 H05K1/14
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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