一种低涨缩的高分子材料缓冲垫
授权
摘要
本实用新型公开了一种低涨缩的高分子材料缓冲垫，其结构自上而下包括包括，第一离型膜层、第一环氧树脂层、阻胶层、第二环氧树脂层、第二离型膜层；第一离型膜层和第二离型膜层设置有玻纤布，第一离型膜层或第二离型膜层由PTFE、PFA、ETFE、FEP的一种材料制成；阻胶层由纳米陶瓷粉改性环氧树脂材料制成；本实用新型提供的高分子材料缓冲垫具备良好的覆型、离型作用，涨缩性能可以与待压合的多层电路板良好匹配，为介质层涨缩较小的多层电路板的热压合提供具备低涨缩、抗拉、覆型、离型的缓冲作用。
基本信息
专利标题 ：
一种低涨缩的高分子材料缓冲垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022211011.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-02
授权号 ：
CN212910272U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
蔡高明杨桂林梁汉声
申请人 ：
深圳市瑞昌星科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道骏业工业园A11栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022211011.8
主分类号 ：
H05K3/46
IPC分类号 ：
H05K3/46 B32B27/38 B32B27/08 B32B27/32 B32B7/06 B32B17/02 B32B17/10 B32B27/30
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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