立式抛光机的磨头移动机构
授权
摘要
本实用新型涉及抛光设备技术领域，特别涉及一种立式抛光机的磨头移动机构包括磨头本体、基座、缓冲板、缓冲装置和气缸；所述缓冲板通过缓冲装置连接于基座，所述气缸的缸体固定于缓冲板，所述磨头本体连接于气缸的活塞杆。缓冲板通过缓冲装置连接于基座，气缸的缸体固定于缓冲板，上述缓冲装置可以是气弹簧和油压缓冲器，当磨头由气缸带动下移动而接触被抛光工件时，能够起到缓冲作用，使公件防冲击，速度可控，使抛光工件表面平整光亮。
基本信息
专利标题 ：
立式抛光机的磨头移动机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022217654.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN213380869U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
林承鑫张炳森
申请人 ：
福建东亚机械有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市仙游县鲤城镇木兰村
代理机构 ：
福州市博深专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张明
优先权 ：
CN202022217654.3
主分类号 ：
B24B27/00
IPC分类号 ：
B24B27/00 B24B29/00 B24B41/00 B24B41/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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