双能量成像设备
授权
摘要
本申请涉及双能量成像设备。目的是提供一种用于x射线和/或伽马射线检测的设备。根据实施例，设备包括：包括多个像素的检测器，其中多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第二像素子集；处理单元，其被配置为：从多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的信号获得多个像素中的每个像素的辐射强度值；计算第二像素子集中至少一个像素的在第一能量范围内的辐射强度估计。提供了一种设备。
基本信息
专利标题 ：
双能量成像设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022217941.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN213813966U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
米科·马蒂卡拉
申请人 ：
芬兰探测技术股份有限公司
申请人地址 ：
芬兰奥卢
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
许春波
优先权 ：
CN202022217941.4
主分类号 ：
G01T1/20
IPC分类号 ：
G01T1/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/20
用闪烁探测器
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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