水下渗漏示踪检查用装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种水下渗漏示踪检查用装置。本实用新型的目的是提供一种结构简单、检测简便、不受水深限制的水下渗漏示踪检查用装置及其使用方法。本实用新型的技术方案是:一种水下渗漏示踪检查用装置,其特征在于:具有透水框架和置于透水框架内的膜袋式示踪剂容器,示踪剂容器上接有软管并经软管连接喷嘴,对应所述示踪剂容器设有用于挤压该示踪剂容器使容器内的示踪剂经软管从喷嘴喷出的挤压机构。本实用新型适用于水下示踪检查领域。
基本信息
专利标题 :
水下渗漏示踪检查用装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022220647.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
CN212844223U
授权日 :
2021-03-30
发明人 :
吴启民叶谦刘德明林忠华陈乔
申请人 :
浙江华东建设工程有限公司;杭州国电大坝安全工程有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区三墩镇古墩路997号
代理机构 :
杭州九洲专利事务所有限公司
代理人 :
沈敏强
优先权 :
CN202022220647.9
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20 B05B15/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-03-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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